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释放SF6气体扰动电离层时的人工气辉研究

黄勇,  程立,  张方

黄勇, 程立, 张方. 释放SF6气体扰动电离层时的人工气辉研究[J]. 空间科学学报, 2012, 32(3): 348-353. doi: 10.11728/cjss2012.03.348
引用本文: 黄勇, 程立, 张方. 释放SF6气体扰动电离层时的人工气辉研究[J]. 空间科学学报, 2012, 32(3): 348-353. doi: 10.11728/cjss2012.03.348
Huang Yong, Cheng Li, Zhang Fang. Research on artificial airglow during ionospheric modification by the release of SF6 gas[J]. Chinese Journal of Space Science, 2012, 32(3): 348-353. doi: 10.11728/cjss2012.03.348
Citation: Huang Yong, Cheng Li, Zhang Fang. Research on artificial airglow during ionospheric modification by the release of SF6 gas[J]. Chinese Journal of Space Science, 2012, 32(3): 348-353. doi: 10.11728/cjss2012.03.348

释放SF6气体扰动电离层时的人工气辉研究

doi: 10.11728/cjss2012.03.348 cstr: 32142.14.cjss2012.03.348
详细信息
  • 中图分类号: P352

Research on artificial airglow during ionospheric modification by the release of SF6 gas

  • 摘要: 在电离层高度释放SF6气体能够显著扰动电离层. 根据SF6分子在电离层中的扩散方程, 同时考虑其在电离层中主要的离子化学反应, 研究了SF6气体释放后电离层各粒子浓度的时空变化, 计算了产生人工气辉的体发射系数和发射强度. 结果表明, SF6气体在电离层高度释放后, 电子和O+的密度均有大幅度下降, 主要的负离子成分由电子转变成SF5-; 在释放过程中, 主要产生777.4nm和135.6nm两种气辉, 且前者的气辉强度远小于后者; 电离层温度对气辉的强度有很大的影响. 本文的数值计算与美国IMS/SF6实验观测数据进行比较, 结果近似, 且通过数据比较还能准确推断出实验时当地的电离层温度.

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2011-02-28
  • 修回日期:  2011-11-09
  • 刊出日期:  2012-05-15

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